现代光学丈量的中心原理经过光波在膜层外表（直接反射）与基底界面（二次反射）构成的干与图样相位差，树立纳米级膜厚核算的数学模型。景颐光电继续优化光源稳定性（±0.1nm波长操控）和探测器灵敏度（0.001°相位分辨率），使丈量精度到达±0.3nm等级。

  增透膜厚度操控：关于400-700nm可见光波段，将反射损耗从4%降至0.5%

  偏振膜精度验证：丈量误差小于λ/200（λ=632.8nm时对应3.16nm）

  选用激光干与技能（中心波长632.8nm）合作高速CCD阵列（2048像素），完成0.1nm级重复精度。关于100nm厚度薄膜，丈量不确定度小于0.3%。

  经过光纤探头（作业间隔15mm）进行非触摸丈量，适用于超薄石墨烯（单原子层厚度0.335nm）等灵敏资料。

  新一代光谱型设备完成500-1000nm全波段扫描仅需50ms，比传统椭圆偏振仪快200倍。

  选用共焦显微技能（NA=0.9），可丈量曲率半径＞5mm的曲面基底，适用于AR/VR光学元件检测。

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